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PCB生産過程◇中◇[Zhōng]對銅面氧化的防範手段

發布時間(Jiān):2022-05-17 點擊數:載入中...

當前在雙面◇與◇多層? PCB ?生産(Chǎn)過程中沉銅、整闆電鍍[Dù]後至圖形轉移的運○轉○[Zhuǎn]周期中,闆面及孔内(由其小孔内)銅層的氧化(Huà)問題嚴重影響着圖形[Xíng]轉移及圖形電鍍(Dù)的生産品質;另内層闆由于[Yú]◇氧◇化(Huà)造成的AOI 掃描假點[Diǎn]增多,嚴(Yán)重影響到[Dào]AOI 的測試效⋄率⋄等;此類事件一直以來是業内比較的事[Shì],現就此問題的解決[Jué]及使用專業的[De]銅面[Miàn]防氧化劑[Jì]做一些探讨。

? ? 1. 目前PCB 生産過(Guò)程◇中◇[Zhōng]銅面氧化的方法與現狀

? ? 1.1 沉銅—整闆電[Diàn]鍍後的防氧化

? ? ◆一◆般沉銅、整闆電[Diàn]鍍後(Hòu)的闆子大多會經過:

? ? (1)1-3%▽的▽稀(Xī)硫酸處理;

? ? (2)75-85℃的高溫烘[Hōng]幹;

? ? (3)然後∆插∆架或∇疊∇▿闆▿▾放▾(Fàng)⋄置⋄,等待[Dài]貼幹膜或印制濕膜做[Zuò]圖形轉移;

? ? (4)而在此[Cǐ]過程中,闆子少則需放置2-3 天,○多○則5-7 天(Tiān);

? ? (5)此時的闆∇面∇和[Hé]孔内[Nèi]銅層早就氧化成(Chéng)“黑乎乎[Hū]”的了。

? ? 在圖形轉移的前處理,通[Tōng]常都會采用“3%的稀硫酸+磨刷”的[De]形式對闆面銅層進[Jìn]行處理。而孔内●隻●(Zhī)有靠酸洗的處理效果(Guǒ)了,且小孔在前面的烘(Hōng)幹過程中是▿很▿難(Nán)達到理⋄想⋄效果的;因[Yīn]此小孔内往往因(Yīn)幹燥不徹底、藏有水份[Fèn],其氧(Yǎng)化程度也比闆面嚴重的多,靠區區[Qū]酸洗是無法其頑固的氧化層的。這(Zhè)就可能導▲緻▲闆子經圖形電[Diàn]鍍、蝕刻後造成因孔内[Nèi]無銅而報●廢●。

? ? 1.2 ▽多▽層闆内層的防氧化

? ? 通常内層線路完成後,即經過顯(Xiǎn)影、蝕刻、退膜及3%稀硫酸處理。然(Rán)後∇通∇過(Guò)隔膠●片●的方式存放與轉運及(Jí)等待AOI 掃描與測試;雖然在此過(Guò)程中,操作、轉(Zhuǎn)運等都會[Huì]特别小▲心▲與仔∆細∆,但闆面還[Hái]是難免有諸如手[Shǒu]指[Zhǐ]印、污點、氧化點等⋄瑕⋄疵;在AOI 掃描時會有大量(Liàng)的假點産生,∇而∇AOI 的測試是根據掃描的數據進行的,即所有的掃[Sǎo]描點(包括假點)AOI 都要進行測[Cè]試,這樣就導緻了AOI▾的▾測[Cè]試效率非常低下。

? ? 2. 引入銅面防氧▲化▲(Huà)劑[Jì]的一[Yī]∆些∆探讨

? ? 目(Mù)前多家 PCB 供應商都◇有◇推出不同○的○(De)銅面防氧化劑,以供生産之用;該的主要[Yào]工作原理為:利[Lì]用有機酸與銅原子形◈成◈(Chéng)共價鍵◇和◇配合鍵,相互[Hù]多(Duō)替成鍊狀聚合物,在銅表面組成多[Duō]層保護膜,使銅(Tóng)之◇表◇面不發生氧化還原(Yuán)反應,不發生(Shēng)氫氣,從而起到防氧化的作[Zuò]用。根據我們在實(Shí)際(Jì)生(Shēng)産中的使用情況(Kuàng)和了解,該銅面防氧化劑一般具有以下優點:

? ? a. 工藝簡單、适(Shì)用(Yòng)範圍寬,易于操作與維護;

? ? b. 水溶(Róng)性工藝(Yì)、不含鹵化◆物◆及鉻酸鹽(Yán),利于環境保護;

? ? c. 生成的防氧▽化▽保護(Hù)膜的褪除簡單,隻需常規的“酸洗+磨刷”工藝;

? ? d. 生[Shēng]成的防氧化保護膜不影響銅層的焊接[Jiē]性能和幾乎不改變接觸電阻。

? ? 2.1 在沉銅—整闆電鍍後防氧化的應用

PCB電路闆


? ? 在沉銅—整闆電鍍後的處理過程中,将“◈稀◈[Xī]硫(Liú)酸”改成專業用“銅(Tóng)面防[Fáng]氧化劑”,其它如幹燥及之後的插架或疊闆等操作方式(Shì)不變;在此(Cǐ)處理過程中,闆面與孔内銅▿層▿表面上會生成一層很薄且均勻的防◆氧◆化保護膜,能夠将銅層表面與空氣完全隔絕,防止空氣中[Zhōng]硫化物接觸[Chù]銅面,使銅層氧◆化◆(Huà)和變黑;通常情況[Kuàng]下,該(Gāi)防(Fáng)氧化○保○[Bǎo]護膜●的●有效儲置期可達6-8 天,完全可滿足[Zú]一般工廠的運轉周期。

? ? 在圖∇形∇轉移的[De]前處理,隻需采用通常的“3%的稀硫酸+磨刷”∇的∇方式,即[Jí]可将闆面及孔内的防氧化保護膜(Mó)快[Kuài]速、∇完∇全去除,對後[Hòu]續工序無任(Rèn)何▿影▿響。

? ? 2.2 在多(Duō)層闆内層防氧[Yǎng]化○的○應用

? ? 與(Yǔ)常規處理的程序相同,隻需[Xū]将水平生産線中的“3%稀硫[Liú]酸”改成專業用“銅(Tóng)面防氧化劑”即可。其它[Tā]如幹燥、存儲、轉(Zhuǎn)運等操(Cāo)作不變;經(Jīng)此處理◆後◆,闆面同樣會生[Shēng]成一層很薄且均[Jun1]勻的防(Fáng)氧化保護膜,将銅層表面與空[Kōng]氣完全隔絕,使闆面不被氧化(Huà)。同(Tóng)時也防止手指印、污點直接接觸闆[Pǎn]面,減少AOI 掃描過程(Chéng)中的假點,從而◆提◆高AOI 的▾測▾試效率。

? ? 3. ○分○别使用稀硫酸和銅面防氧化○劑○處理後[Hòu]的内層闆AOI 掃[Sǎo]描、測試(Shì)的對▽比▽

? ? 以[Yǐ]下為分别使用稀硫酸與銅面防氧化劑處[Chù]理[Lǐ]的同一型∆号∆、同一批号的内層闆,各[Gè]10PNLS 在AOI掃描與測試[Shì]的結果對比。

? ? ◈注◈:由以上的測試數據可知:

? ? a. 使用銅面防氧化劑處理(Lǐ)的内層◇闆◇的AOI 掃描假點數[Shù]是使用▽稀▽硫酸處理的内∇層∇闆的AOI 掃描假點數[Shù]的9%不到;

? ? b. 使用銅面防[Fáng]▿氧▿化[Huà]劑處理的内[Nèi]層闆的AOI 測試氧化點數為:0;而使用稀硫(Liú)酸處理的内層闆的AOI 測試[Shì]氧(Yǎng)化(Huà)▽點▽數▿為▿:90。

? ? 4. 總[Zǒng]結

? ? 總之,随着電路闆(Pǎn)産業的發展,産品檔次的提升;由于氧[Yǎng]化造▿成▿(Chéng)的小孔無銅報廢及内、外層[Céng]AOI測試效率的低◆下◆,都是PCB 生◊産◊過程(Chéng)中需要[Yào]大力解決的(De);而銅面防氧化劑的出現與應用,對諸如此類問題的解(Jiě)決提供了很好的幫助。相(Xiàng)信,在今後的PCB?生産過[Guò]程▽中▽[Zhōng],銅面防(Fáng)氧化劑的(De)使用會[Huì]越來越普[Pǔ]及。


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